研磨液废水怎么处理|研磨液废水如何处理

项目背景

某大型半导体制造企业位于长三角地区，主要生产晶圆和芯片。在生产过程中，晶圆切割和抛光阶段产生大量研磨液废水，日均排放量约50吨。由于废水中含有高浓度悬浮物、金属离子及有机添加剂，直接排放会对环境造成严重污染，企业急需建设专业处理设施。

废水成分及来源

研磨液废水主要来源于晶圆加工中的化学机械抛光（CMP）工序，主要污染物包括：

悬浮颗粒物

：二氧化硅、氧化铝等研磨颗粒，粒径在0.1-1μm，浓度高达2000mg/L。

金属离子

：铜、铁、锌等，来自抛光垫磨损及晶圆表面金属层，铜离子浓度约50mg/L。

有机添加剂

：包括表面活性剂、缓蚀剂等，COD值在800-1200mg/L。

酸碱性物质

：pH值波动大，通常在2-11之间。

处理工艺流程

针对废水特性，采用“预处理+生化+深度处理”组合工艺：

调节池

：均衡水质水量，添加酸碱调节pH至中性。

混凝沉淀

：投加PAC（聚合氯化铝）和PAM（聚丙烯酰胺），去除悬浮物和胶体，沉降后SS去除率>90%。

催化氧化

：采用Fenton试剂（H₂O₂+Fe²⁺）降解有机添加剂，COD去除率达60%。

生物处理

：MBR膜生物反应器进一步降解剩余有机物，COD降至100mg/L以下。

离子交换

：专用树脂吸附铜离子，出水铜含量<0.5mg/L。

砂滤+活性炭过滤

：确保出水清澈，达到《污水综合排放标准》（GB8978-1996）一级标准。

最终效果

系统运行稳定后：

SS<10mg/L，COD<60mg/L，铜离子<0.3mg/L。

回用率达40%，剩余达标排放，年减少废水排放1.8万吨。

处理成本约15元/吨，远低于行业平均。