某半导体厂在生产过程中使用硝酸系显影液,产生高浓度含NOx废水,日处理量50吨。废水中含NO2-高达2000mg/L,且含有微量有机光刻胶成分,处理难度较大。
2. 废水成分及来源
显影工序废液(主要污染源)
晶圆清洗废水
废气洗涤塔排水
3. 处理工艺流程
采用"高级氧化+两级生物处理"创新工艺:
臭氧氧化
:通过臭氧发生器产生O3,将难降解有机物分解为小分子物质,同时将NO2-氧化为NO3-。
生物膜反应器(MBR)
:
第一级:缺氧环境下投加甲醇作为碳源,促进反硝化反应
第二级:好氧生物膜进一步降解有机物
电化学深度处理
:采用钛基涂层电极,通过电解作用彻底分解残余污染物。
4. 最终效果
NOx总氮降至8mg/L以下
COD稳定在30mg/L以内
废水回用率达60%
系统运行电耗控制在3.5kWh/吨水,较传统工艺节能20%。
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