该电子厂位于华东地区,主要生产半导体材料,生产过程中产生大量含氟化氢的废水,日排放量约50吨。由于氟化氢浓度高达800mg/L,远超国家排放标准(10mg/L以下),企业急需建设专业处理设施。
废水成分及来源
废水主要来自晶圆清洗、蚀刻工序,主要污染物为氟化氢(HF),同时含有少量硝酸、硅酸盐及微量重金属。pH值极低(1-2),具有强腐蚀性。
处理工艺流程
采用"化学沉淀+絮凝沉淀+深度过滤"三级处理工艺:
中和反应
:投加氢氧化钙(Ca(OH)2)调节pH至8-9,生成氟化钙沉淀
絮凝沉淀
:加入PAC(聚合氯化铝)和PAM(聚丙烯酰胺)强化沉淀效果
多级过滤
:通过石英砂过滤器和活性炭吸附塔去除残余悬浮物
pH回调
:用稀盐酸将出水pH调整至6-9的达标范围
关键控制参数:反应时间≥30分钟,Ca/F摩尔比控制在1.1:1,搅拌速度60rpm。
最终效果
处理后出水氟离子浓度稳定在6-8mg/L,去除率达99%,完全满足《污水综合排放标准》(GB8978-1996)一级标准。系统自动化程度高,运行成本约8元/吨水。
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